Facilities/儀器設備

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多功能高解析 X 光繞射儀
    • 位置:工程六館EF101
    • 儀器廠牌:D8 DISCOVER
    • 購置年限:2010年05月
    • 用途:以非破壞性檢測各式材料的晶體結構分析,加以探討材料性質的變化
    • 服務項目:
    1. 極圖 (pole figure)量測分析
    2.  結晶方位分布函數計算
    3.  ω-2θ,ω,2θ,Phi,Chi繞射分析
    4. X光低掠角繞射分析 (Grazing incidence X-Ray Diffraction)
    5. 高解析磊晶繞射分析(HRXRD)
    6. X光反射率 (X-Ray Reflectometry)量測及厚度模擬分析
    7. 多晶塊材及粉末繞射分析
    8. 樣品座變溫裝置系統
  • 一般學術單位:3000元/hr
    廠商及研究單位:4000元/hr

    備註:試片最大面積可以到直徑10.0cm,不得低於1.0cm×1.0cm,高度不得超過3mm。必須對試片結構有一定的瞭解,包括基材、薄膜之大約厚度、成分、密度等。不接受具揮發性與毒性之試樣。